光面爆破就是沿邊界線鉆鑿一排較密的平行鉆孔，往孔內(nèi)裝入少量炸藥，在主爆孔爆破之后再進(jìn)行起爆，從而沿密集鉆孔形成平整的巖壁。圖7-9所示是某鐵礦采用光面爆破法清理邊坡的示意圖。
圖7-9 用光面爆破清理邊坡 1-光面孔；2，3-輔助孔     首先，用150型潛孔鉆機(jī)沿邊界線打一排較密的光面炮孔，其孔徑為150mm，孔距為1.7 -2. 0m，傾角75°，斜長16. 5m。在光面孔距離臺階坡面大于2.5m的地方，再適當(dāng)布置一些輔助鉆孔，使光面鉆孔排與輔助鉆孔排的間距為2.0 -2.3m。而后，往光面孔內(nèi)裝入比孔徑小的細(xì)藥卷，線裝藥密度為1. 5kg/m，在藥包與孔壁之間沿徑向和軸向方向上都留有空隙，平均裝藥量為1. 3kg/m。輔助孔按3kg/m的線裝藥密度裝藥，并適當(dāng)增加底部裝藥量。起爆時，輔助孔先爆，間隔50ms后光面孔再爆。這樣，爆破后坡壁面平整，不平整度僅為10 - 20cm，壁面上留有半個光面孔。     采用光面爆破時，應(yīng)注意以下幾個問題：     (1)合理選擇爆破參數(shù)。光面爆破的參數(shù)選擇與預(yù)裂爆破很類似，不過由于光面爆破是最后起爆，受巖石的夾制作用較小些，所以參數(shù)也就比較大。根據(jù)經(jīng)驗(yàn)，光面爆破的最小抵抗線一般是正常采掘爆破的0.6 -0.8倍，間距是自身抵抗線的0.7-0.8倍，即：     W_G=(0.6 -0. 8)W    (7-26)     a_G= (0.7 -0.8)W_G    (7-27) 式中 W_G-光面爆破的最小抵抗線，m:     W-正常采掘爆破的最小抵抗線，m；     a_G -光面爆破的鉆孔間距，m。     光面爆破的孔徑一般等于正常炮孔作業(yè)的鉆孔直徑，若條件允許時宜取小一些的值。其不耦合系數(shù)同樣在2-5范圍內(nèi)，線裝藥密度通常為0.8-2.0kg/m。表7-8列舉了國外不同炮孔直徑時的光爆參數(shù)，供使用時參考。 表7-8國外不同炮孔直徑時的光爆參數(shù)

孔徑/mm	線裝藥密度/kg·m-1	炸藥類型	最小抵抗線/m	炮孔間距/m
50	0. 25	占利特	1.1	0.8
62	0. 35	納比特	1.5	1.0
75	0.5	納比特	1.6	1.2
87	0.7	狄納米特	1.9	1.4
100	0 9	狄納米特	2.1	1.6
125	1.4	狄納米特	2.7	2.4
150	2.0	狄納米特	3.2	2 4
200	3.0	狄納米特	4.0	3.2

    (2)妥善進(jìn)行裝藥與起爆。光面爆破用的炸藥最好也是爆速低、傳爆性能好的炸藥，我國一般用巖石炸藥或銨油炸藥。藥卷盡量固定在鉆孔中央、使周圍留有環(huán)形空隙等這些方面的要求與預(yù)裂爆破相似，與預(yù)裂爆破不同的地方主要是在起爆時間上。光面鉆孔的起爆時間必須遲于主炮孔的起爆時間，通常是滯后50 - 75ms。至于光面鉆孔的起爆方式，為了使光面孔同時起爆，最好也是采用導(dǎo)爆索起爆。     (3)控制最后幾排的爆破。光面爆破的作用主要是形成平整的壁面，其并不能抵制或反射正常主炮孔爆破的地震效應(yīng)，所以臨近邊坡時最后幾排鉆孔的裝藥量和抵抗線都應(yīng)減小。最后幾排孔最好是采用緩沖爆破。     (4)嚴(yán)格施工要求。光面鉆孔的施工同樣也要做到“平”、“正”、“齊”。特別是在邊界平面的垂直方向上，鉆孔偏差不許超過±(15 - 20) cm，否則壁面很難平整。     總之，光面爆破和預(yù)裂爆破有很多相似之處，其根本區(qū)別在于起爆時間。光面爆破孔距較大，穿孔工作量相對少一些，但其降震效果不如預(yù)裂爆破。所以，臨近邊坡的爆破可以概括為：微差爆破是基礎(chǔ)，臨近邊坡宜采用“緩沖爆破”，重要地段采用預(yù)裂爆破，清理邊坡應(yīng)采用光面爆破。